半导体超纯水设备
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一、技术要求

产水压力:0.4MPa

产水水质:按ASTM D5127-2013 E-1.1级的水质标准

      

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运行要求:年连续运转8000小时

管阀材质:采用进口PVDF超纯型管道阀门,热熔对焊。

 

二、产品先进性

 

设备回收率:EDI装置回收率≥90%EDI浓水全部回流至厂区除盐水系统原水箱。

设备控制:采用PLC+上位机全自动运行方式,同时可手动运行,系统带自检功能,声光报警。系统运行参数可存储,可打印。正常运行为自动,检修为手动,可实现无人值守。系统运行实况可于在线流程模拟屏上实时显示,如水箱液位的具体高度,增压泵出口压力,产水流量,EDI产水电阻率,产水流量,抛光混床产水电阻率、产水流量以及终端产水电阻率、在线监测微粒数等参数。

供水方式:超纯水系统供水采用不间断循环供水方式,回路设计背压阀保持循环量。

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