半导体超纯水设备

一、技术要求

产水压力：0.4MPa

产水水质：按ASTM D5127-2013 E-1.1级的水质标准

运行要求：年连续运转8000小时

管阀材质：采用进口PVDF超纯型管道阀门，热熔对焊。

二、产品先进性

设备回收率：EDI装置回收率≥90%，EDI浓水全部回流至厂区除盐水系统原水箱。

设备控制：采用PLC+上位机全自动运行方式，同时可手动运行，系统带自检功能，声光报警。系统运行参数可存储，可打印。正常运行为自动，检修为手动，可实现无人值守。系统运行实况可于在线流程模拟屏上实时显示，如水箱液位的具体高度，增压泵出口压力，产水流量，EDI产水电阻率，产水流量，抛光混床产水电阻率、产水流量以及终端产水电阻率、在线监测微粒数等参数。

供水方式：超纯水系统供水采用不间断循环供水方式，回路设计背压阀保持循环量。